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岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司

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  • EVG620 NT-掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng) 參考價(jià)： 面議

    參考價(jià)： 面議 型號(hào)：
    EVG620 NT-掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng)EVG ® 620 NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在小化的占位面積，支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。
    型號(hào)： 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比
    自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價(jià)格掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)
    2025/10/22 17:04:509181

  • 量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng) 參考價(jià)： 面議

    參考價(jià)： 面議 型號(hào)：EVG HERCULES
    光刻機(jī)Track系統(tǒng)通過(guò)集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動(dòng)化功能，完善了EVG光刻機(jī)產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機(jī)Track...
    型號(hào)： EVG HERCU... 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比
    HERCULESEVG納米壓印光刻機(jī)
    2025/12/26 15:59:496633

  • 儀器自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價(jià)： 面議

    參考價(jià)： 面議 型號(hào)：EVG IQ Aligner NT
    ?新型IQ Aligner NT具有高強(qiáng)度和高均勻度的曝光光學(xué)器件，新的晶圓處理硬件，可實(shí)現(xiàn)全局多點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件...
    型號(hào)： EVG IQ Al... 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比
    光刻機(jī)光刻掩膜掩模曝光
    2025/12/26 16:01:023336

  • EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng) 參考價(jià)： 面議

    參考價(jià)： 面議 型號(hào)：
    EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng) EVG光刻機(jī)EVG®610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng)，可處理零碎片和大200 mm的晶圓。
    型號(hào)： 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比
    自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價(jià)格
    2025/9/4 12:08:353946

  • EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 參考價(jià)： 面議

    參考價(jià)： 面議 型號(hào)：
    EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 特色：EVG ® 6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。
    型號(hào)： 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比
    自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價(jià)格納米壓印機(jī)
    2025/9/4 12:06:134792

  • IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價(jià)： 面議

    參考價(jià)： 面議 型號(hào)：
    IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 用于自動(dòng)非接觸近距離掩模對(duì)準(zhǔn)光刻，進(jìn)行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達(dá)200毫米。
    型號(hào)： 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比
    自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價(jià)格
    2025/9/4 11:28:303578

  • 光刻膠勻膠機(jī) 參考價(jià)： 面議

    參考價(jià)： 面議 型號(hào)：EVG101
    研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。 EVG101光刻膠勻膠機(jī)在單室設(shè)計(jì)上可以滿足研發(fā)工作，與EVG的自動(dòng)化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓，...
    型號(hào)： EVG101 品牌：所在地：上海市 對(duì)比
    勻膠機(jī)勻噴膠機(jī)微流控加工光刻膠加工EVG101
    2025/9/4 11:05:395429

  • EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 參考價(jià)： 面議

    參考價(jià)： 面議 型號(hào)：EVG610
    EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)EVG610（單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對(duì)準(zhǔn)...
    型號(hào)： EVG610 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比
    EVG光刻機(jī)微流控EVG微流控芯片接觸式光刻機(jī)
    2025/9/4 11:03:4311815
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